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J-GLOBAL ID：200903053730808943

写真処理廃液の処理方法及び装置

Inventor： 小川 尊夫
Applicant, Patent owner： 有限会社小川環境研究所
Agent (1)： 井上 清子 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994029144
Publication number (International publication number)：1995214044
Application date： Feb. 02, 1994
Publication date： Aug. 15, 1995
Summary：

【要約】【目的】 写真処理廃液を加熱蒸発した際に発生する蒸発ガス中の有害物を安定して容易かつ経済的に処理する。【構成】 写真処理廃液を加熱蒸発し、蒸発ガスを少量の空気とともに略200°C以上に加熱し触媒に接触させて反応させる場合において、触媒反応層を前段の触媒反応層(20)と後段の触媒反応層(22)に分割すると共にその間に不活性充填材層(21)を介在させ、上記前段の触媒反応層(20)により蒸発ガス中の有害物の一部を分解しその触媒反応により生じた熱により上昇した蒸発ガスの温度を不活性充填材層(21)において低下させてから後段の触媒反応層(22)にて反応させるようにした。

Claim (excerpt)：

写真処理廃液を加熱蒸発し、蒸発するガスを少量の空気とともに略200°C以上に加熱して触媒に接触させ反応させることにより蒸発ガス中の有害物を酸化分解する写真廃液処理法において、触媒反応を分割して行い、次の触媒反応へ移行するときに該触媒反応により生じた熱で上昇した蒸発ガスの温度を低下させてから次の触媒反応をさせることを特徴とする写真処理廃液の処理方法。

IPC (4)：

C02F 1/04 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01D 53/86 ZAB ,  G03C 5/00

FI (2)：

B01D 53/36 D ,  B01D 53/36 ZAB E