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J-GLOBAL ID:200903053746426102
断層撮影装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 祐介
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994114767
Publication number (International publication number):1995299061
Application date: Apr. 30, 1994
Publication date: Nov. 14, 1995
Summary:
【要約】【目的】 前回設定したスライス面の位置・角度と同一の位置・角度のスライス面を正確に設定することが容易にできるようにする。【構成】 今回のスライス計画用透過像46に対して前回のスライス計画用透過像43を重ね合わせ、前回の透過像43に関して設定したスライス面を表わすカーソル44を、今回の透過像46に関して流用し、固定する。
Claim (excerpt):
撮像面上でのデータを収集する撮像手段と、収集したデータから上記撮像面での断層像を再構成する手段と、上記撮像手段に対する被検体の相対的な位置・角度を変化させて被検体のスライス面の位置・角度を定める位置決め手段と、画面上に表示された被検体のスライス計画用リファレンス画像に対してスライス面情報を設定することによりスライス計画を設定するスライス計画設定手段と、上記設定されたスライス計画に基づき上記位置決め手段と撮像手段とを制御し、計画通りのスライス面でのデータを収集させる制御手段と、これらスライス面での再構成された画像データとともに上記のスライス計画用リファレンス画像とスライス面情報とを個々の被検体ごとに保持する記録手段と、同一被検体について2回以上の撮像を行なう場合に、前回のスライス計画用リファレンス画像と今回のスライス計画用リファレンス画像とを対応させながら前回のスライス面情報を今回のスライス計画用リファレンス画像に適用できるようにする手段とを有することを特徴とする断層撮影装置。
IPC (4):
A61B 6/03 371
, A61B 6/03 360
, A61B 6/03
, A61B 5/055
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