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J-GLOBAL ID：200903053770170640

毛髪化粧料、ダメージヘア用スタイリング剤およびヘアケア・スタイリング方法

Inventor：
清水 秀樹

About 清水 秀樹

, 
川副 智行

About 川副 智行


Applicant, Patent owner：
株式会社資生堂

About 株式会社資生堂


Agent (1)： 舘野 千惠子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003146812
Publication number (International publication number)：2004346040
Application date： May. 23, 2003
Publication date： Dec. 09, 2004
Summary：
【課題】従来の樹脂や油分を用いたスタイリング剤のような自然な風合いを損ねることなく、持続的なスタイリング効果があると共に、毛髪中の傷みに作用してその補修を行うことのできる毛髪化粧料及びダメージヘア用スタイリング剤を提供する。【解決手段】分子内にプロトン放出可能なアニオン性官能基とプロトン受容可能なカチオン性官能基とを1:2で有する特定の構造体(A)と、該アニオン性官能基とカチオン性官能基とを2:1の割合で有する特定の構造体(B)とを共に配合する。両成分を配合することで、毛髪内部からのスタイリングと、スタイルキープ、毛髪内部の補修の3つが同時に行われる(ケアingスタイリング)。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
分子内にプロトン放出可能なアニオン性官能基とプロトン受容可能なカチオン性官能基とを1:2で有する構造体(A)と、前記アニオン性官能基とカチオン性官能基とを2:1の割合で有する構造体(B)とを共に配合することを特徴とする毛髪化粧料。
IPC (2)：
A61K7/06 ,  A61K7/11
FI (2)：
A61K7/06 ,  A61K7/11
F-Term (38)：
4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AC012 ,  4C083AC022 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC182 ,  4C083AC262 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC442 ,  4C083AC482 ,  4C083AC532 ,  4C083AC542 ,  4C083AC581 ,  4C083AC582 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC851 ,  4C083AC852 ,  4C083AC902 ,  4C083AD052 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD352 ,  4C083CC31 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083DD08 ,  4C083DD21 ,  4C083DD31 ,  4C083EE25 ,  4C083EE28 ,  4C083EE29
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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