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J-GLOBAL ID:200903053820271272

化合物半導体発光素子およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 山本 秀策
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995207204
Publication number (International publication number):1997055560
Application date: Aug. 14, 1995
Publication date: Feb. 25, 1997
Summary:
【要約】【課題】 良質で厚膜のクラッド層を形成して、量産性に優れ、電気特性および光学特性が良好な半導体レーザおよび発光ダイオードを実現する。【解決手段】 n型下部クラッド層4中に薄層のAl<SB>x</SB>Ga<SB>1-x</SB>N(0≦x≦1)緩衝層5が形成され、p型上部クラッド層7中に薄層のAl<SB>x</SB>Ga<SB>1-x</SB>N(0≦x≦1)緩衝層8が形成されている。n型Al<SB>y</SB>Ga<SB>1-y</SB>N(0<y<1)クラッド層4a/Al<SB>x</SB>Ga<SB>1-x</SB>N(0≦x≦1)緩衝層5を繰り返して成長し、p型Al<SB>y</SB>Ga<SB>1-y</SB>N(0<y<1)クラッド層7a/Al<SB>x</SB>Ga<SB>1-x</SB>N(0≦x≦1)緩衝層8を繰り返して成長することにより、下部クラッド層4および上部クラッド層7を約1μm成長できる。
Claim (excerpt):
基板上に、少なくとも下部クラッド層と、活性層または発光層と、上部クラッド層とが基板側からこの順に形成され、該下部クラッド層中および上部クラッド層中に、緩衝層が単層または複数層形成されている化合物半導体発光素子。
IPC (2):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00
FI (2):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 C

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