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J-GLOBAL ID：200903053894665884

陽性フォトレジスト製造用共重合体およびこれを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物

Inventor： パーク ジョー-ヘオン ,  キム ジ-ホン ,  キム キ-ダエ ,  パーク スン-イ ,  キム セオン-ジュ
Applicant, Patent owner： クンホセオキュホアハクジュシクヘサ
Agent (1)： 石田 敬 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998096482
Publication number (International publication number)：1998316720
Application date： Apr. 08, 1998
Publication date： Dec. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 クォータ-ミクロン以下のパターン形成を満たすとともに耐エッチング性を向上させる陽性フォトレジスト製造用共重合体およびこれを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 反復単位が次の一般式(I)で示される重合体およびこの重合体と酸発生剤とを含有する化学増幅型陽性フォトレジスト組成物。【化1】(ここで、Rは水素原子またはアルキル基であり、k、m、nはそれぞれ反復単位を示す数で、0.1≦k/(m+n)≦0.5、0≦m/(k+n)≦0.5、かつ0.1≦n/(k+m)≦0.9である)。

Claim (excerpt)：

反復単位が次の一般式(I)で示され、ポリスチレン換算標準分子量が1000〜1,000,000である重合体。【化1】ここで、Rは水素原子またはアルキル基であり、k、m、nはそれぞれ反復単位を示す数で、0.1≦k/(m+n)≦0.5、0≦m/(k+n)≦0.5、かつ0.1≦n/(k+m)≦0.9である。

IPC (2)：

C08F232/04 ,  G03F 7/039 601

FI (2)：

C08F232/04 ,  G03F 7/039 601