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J-GLOBAL ID：200903053918403487

含窒素高分子化合物の固定化方法

Inventor： 一ノ瀬 暢之
Applicant, Patent owner： 新技術事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993317119
Publication number (International publication number)：1995168356
Application date： Dec. 16, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 簡便な操作で、光パーニングを可能とする含窒素高分子化合物の固定化法を提供する。【構成】 チオール基により表面修飾した固体表面をアクリル酸ニトロフェニルエステルまたはその誘導体により反応処理し、光パターニングを行い、ついで含窒素高分子化合物を反応させ、露光されていないマスク領域に固定化する。

Claim (excerpt)：

チオール基により表面修飾した固体表面をアクリル酸ニトロフェニルエステルまたはその誘導体により反応処理し、次いで含窒素高分子化合物を反応させて固定化することを特徴とする含窒素高分子化合物の固定化方法。

IPC (5)：

G03F 7/027 ,  C07K 17/14 ,  C08G 69/48 NRH ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/038