Pat
J-GLOBAL ID:200903053925496334
かご型シルセスキオキサン構造を含む重合体とそれを含むネガ型レジスト材料
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (6):
川口 嘉之
, 松倉 秀実
, 和久田 純一
, 遠山 勉
, 佐貫 伸一
, 丹羽 武司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008060175
Publication number (International publication number):2009215423
Application date: Mar. 10, 2008
Publication date: Sep. 24, 2009
Summary:
【課題】新規なネガレジスト材料を提供する。【解決手段】式(I)で示される重合体。式(I)中、Rは、C1〜40のアルキル基、(置換)アリール基、又は(置換)アリールアルキル基であり、R2は単結合、C1〜40のアルキレン基、又は(置換)アリーレン基であり、R3はC1〜8のアルキル基、又は少なくとも一つの水素が-OR4もしくは水酸基で置換されたフェニル基であり、nは2以上の整数である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
式(I)で示される重合体。
IPC (3):
C08G 77/52
, G03F 7/038
, H01L 21/027
FI (3):
C08G77/52
, G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
F-Term (32):
2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC77
, 2H025BE00
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4J246AA11
, 4J246AB01
, 4J246AB07
, 4J246BA14X
, 4J246BA140
, 4J246BB02X
, 4J246BB020
, 4J246BB021
, 4J246BB25X
, 4J246BB250
, 4J246BB253
, 4J246BB26X
, 4J246BB260
, 4J246BB262
, 4J246CA24X
, 4J246CA240
, 4J246CA53M
, 4J246CA53X
, 4J246CA530
, 4J246CA56U
, 4J246CA56X
, 4J246CA560
, 4J246FA221
, 4J246HA15
, 4J246HA63
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-032380
Applicant:信越化学工業株式会社
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新規なポリマーを含有する放射線感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-190922
Applicant:シップレーカンパニーエルエルシー
-
ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-013585
Applicant:信越化学工業株式会社
-
ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-080481
Applicant:東京応化工業株式会社
-
シリコン含有レジスト組成物およびその使用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-023822
Applicant:インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレ-ション
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Cited by examiner (4)