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J-GLOBAL ID：200903053934966866

フォトレジスト用化合物およびフォトレジスト用樹脂組成物

Inventor： 中野 達也 ,  舩木 克典
Applicant, Patent owner： ダイセル化学工業株式会社
Agent (1)： 鍬田 充生
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999135624
Publication number (International publication number)：2000122295
Application date： May. 17, 1999
Publication date： Apr. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 耐エッチング液性が高く、光照射により可溶化できるフォトレジスト用樹脂組成物により、微細なパターンを形成する。【解決手段】 フォトレジスト用樹脂組成物は、下記式で表されるアダマンタン骨格を有する重合体と、光酸発生剤とで構成されている。【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基,R2,R3,R4は、同一又は異なって、水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,ヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基,カルボキシル基,酸により脱離してヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基又はカルボキシル基を生成する官能基を示し、R2〜R4のうち少なくとも1つが前記官能基である。Xはエステル結合又はアミド結合を示し、mおよびnは0又は1を示す)

Claim (excerpt)：

下記式(1a)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基,R2,R3,R4は、同一又は異なって、水素原子,ハロゲン原子,アルキル基,ニトロ基,アミノ基,N-置換アミノ基,ヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基,カルボキシル基,又は酸により脱離してヒドロキシル基,ヒドロキシメチル基又はカルボキシル基を生成する官能基を示し、R2〜R4のうち少なくとも1つが前記官能基である。Xは連結基を示し、mおよびnはそれぞれ独立して0又は1を示す)で表されるフォトレジスト用化合物。

IPC (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C09D133/04 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  C07C 69/54

FI (7)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 20/28 ,  C09D133/04 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  C07C 69/54 B ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 特開昭63-033350
  
• 特開平1-182303
  

Cited by examiner (5)

• 特開昭63-033350
  
• 特開昭63-033350
  
• 特開平1-182303
  
• 特開昭63-033350
  
• 特開平1-182303