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J-GLOBAL ID：200903053947843097

ポジ型フォトレジスト組成物及びその溶解速度調整方法

Inventor： 須釜 絵理子 ,  田村 章
Applicant, Patent owner： 凸版印刷株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995074345
Publication number (International publication number)：1996272089
Application date： Mar. 31, 1995
Publication date： Oct. 18, 1996
Summary：

【要約】【目的】はじめに設定したレジスト諸特性を変化させることなく、簡単に溶解速度を調整出来るポジ型フォトレジスト組成物及びその溶解速度調整方法を提供すること。【構成】アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、o,m,p-トルイル酸、サリチル酸の少なくとも一つ、もしくは4級アンモニウム塩、メタクリル酸、アクリル酸エステル重合体、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂の少なくとも一つを固形分に対して0.1〜10重量%含有するポジ型フォトレジスト。

Claim (excerpt)：

アルカリ可溶性樹脂と1,2-ナフトキノンジアジド系感光剤を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、ベンゼンスルホン酸、p-トルエンスルホン酸、安息香酸、フタル酸、o,m,p-トルイル酸、サリチル酸の少なくとも一つを含有してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R