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J-GLOBAL ID：200903053983862790

密閉空間用炭酸ガス吸収材

Inventor： 中川 和明 ,  加藤 雅礼 ,  大橋 俊之 ,  吉川 佐和子 ,  越崎 健司
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 大胡 典夫 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000049566
Publication number (International publication number)：2001232184
Application date： Feb. 25, 2000
Publication date： Aug. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】 低濃度の炭酸ガス雰囲気下、室温下で利用でき、かつ再生可能で、炭酸ガス吸収能力の高い密閉空間用炭酸ガス吸収材の提供。【解決手段】 密閉空間2内で、生物1が排出する低濃度の炭酸ガスを吸収・除去する炭酸ガス吸収材3として、リチウムシリケートなどのリチウムを含有する複合酸化物を使用する。この複合酸化物は、低濃度のガス雰囲気下、室温下で炭酸ガスを効率よく炭酸ガスと反応し、かつ、この反応が可逆的であるために700°C程度の比較的低温の熱処理で再生することが可能である。

Claim (excerpt)：

生物存在下の温度で、密閉される空間に配置される炭酸ガス吸収材であって、炭酸ガスと反応して炭酸リチウムを生成するリチウム含有複合酸化物からなることを特徴とする密閉空間用炭酸ガス吸収材。

IPC (3)：

B01J 20/04 ,  B01D 53/14 ,  B01J 20/10

FI (3)：

B01J 20/04 C ,  B01D 53/14 A ,  B01J 20/10 C

F-Term (22)：

4D020AA03 ,  4D020BA01 ,  4D020BA08 ,  4D020BA09 ,  4D020BB01 ,  4D020BC01 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DA03 ,  4D020DB02 ,  4G066AA13B ,  4G066AA22A ,  4G066AA30B ,  4G066AA43A ,  4G066BA09 ,  4G066BA22 ,  4G066CA35 ,  4G066DA03 ,  4G066FA02 ,  4G066FA22 ,  4G066FA25 ,  4G066GA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 炭酸ガス吸収材
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-251104   Applicant：株式会社東芝
• 特開昭56-133027