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J-GLOBAL ID：200903053997932287

スチリル化合物及びその製造方法

Inventor： 東 久洋 ,  東海林 弘 ,  細川 地潮
Applicant, Patent owner： 出光興産株式会社
Agent (1)： 大谷 保
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991283098
Publication number (International publication number)：1993121168
Application date： Oct. 29, 1991
Publication date： May. 18, 1993
Summary：

【要約】【目的】 薄膜性,耐熱性に優れたスチリル化合物及びその製造方法の開発。【構成】 一般式(I)【化1】〔式中、R1 ,R2 ,Arは明細書記載の通りである。〕で表わされるスチリル化合物。

Claim (excerpt)：

一般式(I)【化1】〔式中、R1 ,R2 はそれぞれ置換あるいは無置換の炭素数6〜20のアリール基,置換あるいは無置換のシクロヘキシル基を示す。ここで、置換基は炭素数1〜6のアルキル基,炭素数1〜6のアルコキシ基,炭素数6〜18のアリールオキシ基,フェニル基,ニトロ基,水酸基あるいはハロゲンを示す。これらの置換基は単一でも複数でもよい。またR1 ,R2 は同一でも、また互いに異なっていてもよく、R1 とR2 は置換している基と結合して、置換あるいは無置換の飽和五員環又は置換あるいは無置換の飽和六員環を形成してもよい。Arは置換あるいは無置換の炭素数6〜20のアリール基を表わし、単一置換されていても、複数置換されていてもよく、また結合部位は、オルト,パラ,メタいずれでもよい。なお置換基は前記と同じである。また、アリール基の置換基同士が結合して、置換あるいは無置換の飽和五員環又は置換あるいは無置換の飽和六員環を形成してもよい。〕で表わされるスチリル化合物。

IPC (18)：

H05B 33/14 ,  C07C 1/32 ,  C07C 13/28 ,  C07C 13/567 ,  C07C 15/52 ,  C07C 15/56 ,  C07C 17/26 ,  C07C 23/18 ,  C07C 25/24 ,  C07C 37/11 ,  C07C 39/21 ,  C07C 41/30 ,  C07C 43/188 ,  C07C 43/215 ,  C07C 43/285 ,  C09K 11/00 ,  C09K 11/06 ,  H05B 33/22