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J-GLOBAL ID：200903054053251445

パック化粧料

Inventor： 正木 仁 ,  竹井 増美
Applicant, Patent owner： 株式会社ノエビア
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991116774
Publication number (International publication number)：1993345712
Application date： Apr. 19, 1991
Publication date： Dec. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 キトサンの皮膜形成性を利用して、皮膚に対して親和性が高く、且つ保湿性の高いパック化粧料を得る。【構成】 キトサンの酸塩、またはキトサンのカルボキシル化物,スルホン化物,グリコール化物,四級化物より選ばれた一種以上の水溶性誘導体と、非イオン性の水溶性高分子化合物を皮膜形成剤として配合し、皮膚に対する親和性の高いキトサン皮膜を形成するとともに、その強度を増強した、保湿性,皮膜形成性,剥離性に優れ、刺激感のないパック化粧料。

Claim (excerpt)：

キトサンの酸塩、またはキトサンのカルボキシル化物,スルホン化物,グリコール化物,四級化物より選ばれた一種以上の水溶性誘導体と、非イオン性の水溶性高分子化合物を皮膜形成剤として配合して成る、パック化粧料。

IPC (2)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00