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J-GLOBAL ID:200903054069345393
オキシ硫酸チタンおよびそれを用いる酸化チタンの製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
久保山 隆 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000211003
Publication number (International publication number):2002029750
Application date: Jul. 12, 2000
Publication date: Jan. 29, 2002
Summary:
【要約】【課題】 可視光線を照射することによって高い光触媒活性を示す酸化チタンの製造方法およびその製造原料としての無機チタン化合物を提供する。【解決手段】 固体であり、かつ結晶構造が非晶質であるオキシ硫酸チタンと窒素含有塩基とを反応させ、得られた生成物を焼成する。
Claim (excerpt):
固体であり、かつ結晶構造が非晶質であることを特徴とするオキシ硫酸チタン。
IPC (4):
C01G 23/08
, A61L 9/00
, B01J 35/02
, C01G 23/00
FI (4):
C01G 23/08
, A61L 9/00 C
, B01J 35/02 J
, C01G 23/00 A
F-Term (28):
4C080AA07
, 4C080BB02
, 4C080BB04
, 4C080CC02
, 4C080HH05
, 4C080JJ04
, 4C080KK08
, 4C080LL02
, 4C080MM02
, 4C080QQ03
, 4G047CA02
, 4G047CA04
, 4G047CB04
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD03
, 4G047CD07
, 4G069AA08
, 4G069AA15
, 4G069BA04A
, 4G069BA04B
, 4G069BA48A
, 4G069CA10
, 4G069CA17
, 4G069DA05
, 4G069EA02Y
, 4G069FA08
, 4G069FB30
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