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J-GLOBAL ID:200903054074591815

二酸化硫黄含有溶液からヒ素を除去する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 佐藤 一雄 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998348665
Publication number (International publication number):2000203840
Application date: Dec. 08, 1998
Publication date: Jul. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】 本発明は、二酸化硫黄含有溶液からヒ素を除去する、環境に好ましい方法を提供する。【解決手段】 本方法では、まず水溶液中に含まれるヒ素、鉄および二酸化硫黄を酸化し、溶液に沈殿の準備をし、工程管理を改善する。酸化した水溶液に、中和させた循環沈殿物の種結晶を与える。それらの種結晶の上に、カルシウム含有塩基が中和生成物を沈殿させる。最終的な中和した沈殿物は安定したヒ酸第二鉄化合物を含む。
Claim (excerpt):
二酸化硫黄含有溶液からヒ素を除去する方法であって、鉄、ヒ素および二酸化硫黄を含む水溶液を酸化反応器中に導入する工程、前記水溶液中に含まれる、酸化されていない鉄、ヒ素および二酸化硫黄を酸化する工程、前記酸化された水溶液に中和された沈殿物の種結晶を加える工程、前記種結晶を加えた水溶液をカルシウム含有塩基で中和し、中和された、ヒ酸第二鉄化合物を含む沈殿物を析出させる工程、および前記中和された沈殿物の一部を前記原料供給工程に循環させる工程、を含んでなることを特徴とする方法。
IPC (3):
C01G 28/00 ,  C02F 1/58 ,  C22B 3/44
FI (3):
C01G 28/00 Z ,  C02F 1/58 H ,  C22B 3/00 Q
F-Term (14):
4D038AA08 ,  4D038AB70 ,  4D038BB13 ,  4D038BB16 ,  4D038BB18 ,  4G048AA03 ,  4G048AA07 ,  4G048AB08 ,  4G048AE01 ,  4K001AA03 ,  4K001BA21 ,  4K001DB22 ,  4K001DB23 ,  4K001DB25
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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