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J-GLOBAL ID：200903054090186165

電解リン酸塩化成処理浴から有効成分を回収する方法

Inventor： 西谷 伸 ,  松田 茂樹
Applicant, Patent owner： 株式会社デンソー
Agent (4)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  田崎 豪治 ,  西山 雅也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002212982
Publication number (International publication number)：2004052058
Application date： Jul. 22, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：

【課題】電解リン酸塩化成処理浴の有効成分イオンを廃水処理することなく回収し、再利用しうる手段を提供する。【解決手段】リン酸塩化成処理浴として、リン酸イオンおよびリン酸と、リン酸塩結晶を形成し皮膜となる金属イオンと、溶液中の陽イオンが還元され金属として皮膜を構成する金属イオンと、上記溶解したリン酸及び各金属イオンが皮膜形成する反応に関与するイオンを含み、且つ皮膜形成に関与しないイオンを実質的に含有しないリン酸塩化成処理浴を用いる。そして化成処理後に被処理物に付着したリン酸塩化成処理液を水溶液に接触させて希釈洗浄した水洗槽の水溶液を電気透析して、前記水溶液中の有効成分を回収し、化成処理浴に戻す。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

リン酸塩化成処理浴に導電性を有する金属材料を接触させ、この金属材料被処理物を、前記リン酸塩化成処理浴にて電解処理することにより、前記被処理物表面にリン酸塩化合物を含む皮膜を形成し、ついで化成処理後に被処理物に付着したリン酸塩化成処理液を水溶液に接触して希釈洗浄する際に、 (a)リン酸塩化成処理浴として、リン酸イオンおよびリン酸と、リン酸塩結晶を形成し皮膜となる金属イオンと、溶液中の陽イオンが還元され金属として皮膜を構成する金属イオンと、上記溶解したリン酸及び各金属イオンが皮膜形成する反応に関与するイオンを含み、且つ皮膜形成に関与しないイオンを実質的に含有しないリン酸塩化成処理浴を用い、 (b)化成処理後に被処理物に付着したリン酸塩化成処理液を水溶液に接触させて希釈洗浄した水洗槽の水溶液を電気透析して、前記水溶液中の有効成分を回収し、化成処理浴に戻す、 ことを特徴とする電解リン酸塩化成処理浴の有効成分を回収する方法。

IPC (2)：

C25D21/22 ,  C25D11/36

FI (2)：

C25D21/22 D ,  C25D11/36 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 電解リン酸塩化成処理方法及び鉄鋼表面に形成される複合皮膜
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-359490   Applicant：株式会社デンソー
• 塗装前処理方法および塗装前処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-304342   Applicant：日本パーカライジング株式会社, パーカーエンジニアリング株式会社
• Al部材の着色工程の洗浄槽からの排水中の有価物の回収方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-219562   Applicant：旭硝子株式会社
• 特開昭54-158061