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J-GLOBAL ID：200903054100416270

フォトレジスト現像の廃液処理方法

Inventor： 田中 英彦 ,  横山 朝明
Applicant, Patent owner： 旭エンジニアリング株式会社
Agent (3)： 森 哲也 ,  内藤 嘉昭 ,  崔 秀▲てつ▼
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003092157
Publication number (International publication number)：2004298680
Application date： Mar. 28, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：

【課題】フォトレジスト現像廃液の処理方法において、現像廃液の処理速度を長期間に渡って維持する。【解決手段】限外濾過膜または精密濾過膜で濾過する工程と、pH11〜14のアルカリ性洗浄液で限外濾過膜または精密濾過膜を洗浄する薬液洗浄工程とを有する。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

フォトリソグラフィ工程としてフォトレジスト層に対する露光工程と現像液を用いた現像工程とを行い、その結果得られた水溶性フォトレジストを含む現像廃液を濾過膜で濾過することにより、再度現像液として使用可能な状態に処理する方法において、 前記濾過膜をアルカリ性洗浄液で洗浄する薬液洗浄工程を有することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の処理方法。

IPC (3)：

C02F1/44 ,  B01D65/06 ,  G03F7/26

FI (3)：

C02F1/44 F ,  B01D65/06 ,  G03F7/26

F-Term (33)：

2H096AA26 ,  2H096LA25 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA95 ,  4D006JA01Z ,  4D006JA02Z ,  4D006JA39Z ,  4D006JA53Z ,  4D006JA55Z ,  4D006JA57Z ,  4D006JA63Z ,  4D006JA67Z ,  4D006KA01 ,  4D006KA12 ,  4D006KA31 ,  4D006KA46 ,  4D006KB14 ,  4D006KC03 ,  4D006KC13 ,  4D006KD03 ,  4D006KD04 ,  4D006KD17 ,  4D006KE15Q ,  4D006MA01 ,  4D006MA22 ,  4D006MA33 ,  4D006MB02 ,  4D006MC22X ,  4D006PA01 ,  4D006PA05 ,  4D006PB70 ,  4D006PC80