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J-GLOBAL ID：200903054149994856

ポリウレタンフォームの製造方法

Inventor：
工藤 宗夫

About 工藤 宗夫

, 
浅見 篤

About 浅見 篤

, 
一戸 省二

About 一戸 省二

, 
浅井 光雄

About 浅井 光雄


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (1)： 岩見谷 周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998286812
Publication number (International publication number)：2000109529
Application date： Oct. 08, 1998
Publication date： Apr. 18, 2000
Summary：
【要約】【課題】 疎水性シリカ系微粒子をレジンプレミックスに添加してもレジンプレミックスと分離することなく、アミン触媒による劣化もなく安定に保存でき、しかも寸法安定性に優れたポリウレタンフォームが得られるポリウレタンフォームの製造方法を提供する。【解決手段】 ポリウレタンフォームは、ポリウレタンフォーム組成物の硬化、発泡時にレジンプレミックスに疎水性シリカ系微粒子を添加することにより製造される。疎水性シリカ系微粒子は、例えばR13Si01/2単位(但し、R1は同一又は異種の炭素数1〜6の1価炭化水素基)、R2Si03/2単位(但し、R2は炭素数1〜20の1価炭化水素基)、Si02単位からなる粒径0.1〜1ミクロンのは、Si02単位からなり、シリカ微粒子表面にR2Si03/2単位(但し、R2は炭素数1〜20の1価炭化水素基を表す。)を導入し、得られた微粒子表面にR13Si01/2単位(但し、R1は同一又は異種の炭素数1〜6の1価炭化水素基を表す。)を導入することにより得られる。
Claim (excerpt)：
ポリオール、水、触媒、界面活性剤及びポリイソシアネートを含有するポリウレタンフォーム組成物を発泡、硬化させてポリウレタンフォームを製造する方法において、疎水性シリカ系微粒子を添加することを特徴とするポリウレタンフォームの製造方法。
IPC (7)：
C08G 18/00 ,  C08J 9/02 CFF ,  C08K 3/36 ,  C08K 9/02 ,  C08L 75/04 ,  C01B 33/18 ,  C08G101:00
FI (6)：
C08G 18/00 K ,  C08J 9/02 CFF ,  C08K 3/36 ,  C08K 9/02 ,  C08L 75/04 ,  C01B 33/18 C
F-Term (48)：
4F074AA78 ,  4F074AC32 ,  4F074AF03 ,  4F074BA34 ,  4F074BC05 ,  4F074BC12 ,  4F074CB91 ,  4G072AA28 ,  4G072AA41 ,  4G072CC13 ,  4G072GG02 ,  4G072HH28 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072LL06 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072PP17 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR05 ,  4G072UU09 ,  4J002CK021 ,  4J002CP182 ,  4J002DJ016 ,  4J002EN037 ,  4J002EN047 ,  4J002EZ047 ,  4J002FB096 ,  4J002FB116 ,  4J002FB146 ,  4J002FD157 ,  4J002FD312 ,  4J034BA02 ,  4J034CA04 ,  4J034CB03 ,  4J034CC03 ,  4J034CE01 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HC12 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034MA04 ,  4J034NA03 ,  4J034NA08 ,  4J034QB19 ,  4J034QC01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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