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J-GLOBAL ID：200903054150042400

細胞培養担体と、細胞培養方法

Inventor： 渡邉 正己
Applicant, Patent owner： 新技術事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994172178
Publication number (International publication number)：1996033486
Application date： Jul. 25, 1994
Publication date： Feb. 06, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】 任意の温度範囲でゲル化するハイドロゲル(I)中に、このハイドロゲル(I)のゲル化温度より高い下限臨界共溶温度を有する温度感応性高分子化合物を架橋したハイドロゲル(II)を含有する細胞培養担体と、この細胞培養担体を用いて細胞を培養する方法で、非ゲル化状態の細胞培養担体に細胞を添加して均一に分散させ、ハイドロゲル(I)をゲル化させ、温度感応性高分子化合物の下限臨界共溶温度以下または以上の温度で細胞を培養することを特徴とする細胞培養方法。【効果】 培養温度を微量変化させることによりゲル内培養した細胞間に空隙を形成し、しかもこの空隙の大きさを制御することのできる細胞培養担体と、細胞培養方法が提供される。

Claim (excerpt)：

任意の温度範囲でゲル化するハイドロゲル(I)中に、このハイドロゲル(I)のゲル化温度より高い下限臨界共溶温度を有する温度感応性高分子化合物を架橋したハイドロゲル(II)を含有することを特徴とする細胞培養担体。

IPC (3)：

C12N 11/04 ,  C12N 5/06 ,  C12N 11/08