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J-GLOBAL ID：200903054172347957

感光性転写材料、フォトマスク材料、フォトマスクおよびフォトマスクの製造方法

Inventor： 高柳 丘
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 中島 淳 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001355716
Publication number (International publication number)：2003156841
Application date： Nov. 21, 2001
Publication date： May. 30, 2003
Summary：

【要約】【課題】 感光性層が高感度で、機械的強度や硬度が高く、また耐溶剤性が良好である他、405nm以上の波長の光で描画が可能な感光性を有する感光性転写材料およびフォトマスク材料を提供することにあり、更に前記感光性転写材料或いはフォトマスク材料からフォトマスクを製造する方法およびフォトマスクを提供すること。【解決手段】 仮支持体上に、i)重合可能な不飽和結合を有する下記一般式(1)で表されるアルカリ可溶性樹脂バインダーの少なくとも1種、ii)少なくとも1個の重合可能な不飽和結合を有するモノマー、iii)405nm以上の長波長領域の光に感光性を有する光重合開始系、およびiv)着色材を含む感光性層、を少なくとも有する感光性転写材料、フォトマスク材料、フォトマスクおよびその製造方法。【化1】前記一般式(1)において、Rは水素原子またはメチル基を表し、Xはポリカルボン酸の残基を表す。nは0〜20の整数を表す。

Claim (excerpt)：

仮支持体上に、i)重合可能な不飽和結合を有する下記一般式(1)で表されるアルカリ可溶性樹脂バインダーの少なくとも1種、ii)少なくとも1個の重合可能な不飽和結合を有するモノマー、iii)405nm以上の長波長領域の光に感光性を有する光重合開始系、およびiv)着色材を含む感光性層、を少なくとも有する感光性転写材料。【化1】前記一般式(1)において、Rは水素原子またはメチル基を表し、Xは2ないし4個のカルボキシル基を有する芳香族または脂環式カルボン酸の残基を表す。nは0〜20の整数を表す。

IPC (5)：

G03F 7/027 515 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/40 501

FI (6)：

G03F 7/027 515 ,  G03F 1/08 J ,  G03F 1/08 L ,  G03F 1/14 E ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/40 501

F-Term (33)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA06 ,  2H025AB11 ,  2H025AB14 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC42 ,  2H025BC74 ,  2H025BC85 ,  2H025CC11 ,  2H025DA04 ,  2H025FA29 ,  2H095BA11 ,  2H095BA12 ,  2H095BB08 ,  2H095BB38 ,  2H095BC06 ,  2H095BC08 ,  2H095BC19 ,  2H096AA26 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096CA16 ,  2H096EA04 ,  2H096EA23 ,  2H096HA01