Pat

J-GLOBAL ID：200903054186961194

薄膜形成方法及び装置

Inventor： 大野 幸夫 ,  重本 広也 ,  飯田 英世 ,  太田 謙一 ,  中島 淳
Applicant, Patent owner： 太陽誘電株式会社
Agent (1)： 北條 和由
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993179978
Publication number (International publication number)：1995014771
Application date： Jun. 26, 1993
Publication date： Jan. 17, 1995
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 複数種類の原料を使用するに当り、安定した薄膜の形成を可能とし、所定の特性の薄膜を容易に得る。【構成】 2種類の原料溶液が各々原料容器21a、21bに収納され、これら原料容器21a、21bの底に設けた超音波振動子22a、22bにより各々の原料容器21a、21b内で原料溶液が別の溶液として個別に霧化される。キャリアガスにより、原料容器21a、21b内に発生した霧が成膜室16の霧導入口25a、25bに各々に送り出される。成膜室16に導入された霧は、成膜室16内を下降し、基体17の表面に接触し、そこに薄膜を形成する。

Claim (excerpt)：

原料溶液を霧化し、それを加熱した基体表面に供給し、同基体の表面に薄膜を形成する方法において、複数種の原料を別の溶液として個別に霧化し、これらの原料を霧の状態を保ったまま互いに分散させ、被成膜基体表面に供給することを特徴とする薄膜形成方法。