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J-GLOBAL ID：200903054192128313

撥水性光触媒および排ガス処理装置

Inventor： 森 利克 ,  横須賀 丈由 ,  土井 良太 ,  飛田 紘
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992165741
Publication number (International publication number)：1994000385
Application date： Jun. 24, 1992
Publication date： Jan. 11, 1994
Summary：

【要約】【構成】光半導体の表面に撥水性を付与した光触媒3およびそれを支持した光触媒構造体。光触媒および光触媒構造体を用いた亜硫酸ガス,一酸化窒素,亜硫酸塩,亜硝酸塩の吸収または酸化反応器および生成物の回収を含む処理装置。【効果】無尽蔵のクリーンな太陽光エネルギを利用し、一酸化窒素および亜硫酸ガスを酸化吸収し、硫酸塩および硝酸塩として回収できるので、従来の方式に比べてプロセスが簡単になり、運転費が低減される。

Claim (excerpt)：

光半導体の表面に撥水性を付与したことを特徴とする光触媒。

IPC (3)：

B01J 35/02 ,  B01D 53/36 ,  B01D 53/36 101