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J-GLOBAL ID：200903054196281876

パターン形成用の光触媒含有膜およびその製造方法

Inventor：
小林 弘典

About 小林 弘典


Applicant, Patent owner：
大日本印刷株式会社

About 大日本印刷株式会社


Agent (1)： 米田 潤三 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998345306
Publication number (International publication number)：2000169189
Application date： Dec. 04, 1998
Publication date： Jun. 20, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高精細で欠陥のないパターン形成を可能とする高感度の光触媒含有膜と、この光触媒含有膜を高い効率で製造するための製造方法を提供する。【解決手段】 パターン形成用の光触媒含有膜を、金属酸化物からなる光触媒とフルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンとを少なくとも含有するものとし、光触媒の金属元素Mに対するフルオロアルキル基のフッ素Fの比F/Mの値Rにおいて、表面から100Åの深さまでの領域における比F/Mの値R1と、膜全体における比F/Mの値R2との比R1/R2を20〜200の範囲とし、このような光触媒含有膜は、金属酸化物からなる光触媒の水分散液と、フルオロアルキル基含有シラン化合物の加水分解物溶液と、アルコキシシラン化合物の加水分解物溶液とを混合して塗布液とし、この塗布液を基材上に塗布して製造する。
Claim (excerpt)：
金属酸化物からなる光触媒とフルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンとを少なくとも含有し、前記光触媒の金属元素Mに対する前記フルオロアルキル基のフッ素Fの比F/Mの値をRとしたときに、表面から100Åの深さまでの領域における比F/Mの値R1と、膜全体における比F/Mの値R2との比R1/R2が20〜200の範囲にあることを特徴とするパターン形成用の光触媒含有膜。
IPC (3)：
C03C 17/28 ,  B01J 35/02 ,  G02B 5/20 101
FI (3)：
C03C 17/28 A ,  B01J 35/02 J ,  G02B 5/20 101
F-Term (53)：
2H048BA58 ,  2H048BA60 ,  2H048BB02 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  4G059AA06 ,  4G059AA08 ,  4G059AC21 ,  4G059AC22 ,  4G059FA05 ,  4G059FA22 ,  4G059FB06 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA12 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA14A ,  4G069BA14B ,  4G069BA22A ,  4G069BA22B ,  4G069BA22C ,  4G069BA48A ,  4G069BB04A ,  4G069BB06A ,  4G069BC12A ,  4G069BC22A ,  4G069BC25A ,  4G069BC35A ,  4G069BC50A ,  4G069BC60A ,  4G069BC66A ,  4G069BE32A ,  4G069BE32B ,  4G069BE32C ,  4G069BE34A ,  4G069BE34B ,  4G069BE34C ,  4G069CD10 ,  4G069EA08 ,  4G069EB15X ,  4G069EB15Y ,  4G069EB18Y ,  4G069EB19 ,  4G069EC22Y ,  4G069EC29 ,  4G069ED01 ,  4G069FA03 ,  4G069FB06 ,  4G069FB08 ,  4G069FB23 ,  4G069FC02 ,  4G069FC08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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