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J-GLOBAL ID:200903054204033267

メッキ設備

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 加藤 朝道
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):1997512202
Publication number (International publication number):1998511743
Application date: Oct. 11, 1996
Publication date: Nov. 10, 1998
Summary:
【要約】メッキ設備は、メッキ槽および供給容器を有し、電解液は、メッキ槽と供給容器とり間を循環する。この場合、供給容器において、金属イオン不透過性ダイアフラムによって電解液から分離された補助陰極液内にある補助陰極を配した可溶性陽極(5)によって電解液の金属含量の補充が行われる。メッキ槽の不溶性陽極は、陰イオン不透過性ダイアフラムによって電解液から分離された補助陽極液中にある。この解決法の本質的利点は、不溶性陽極を使用でき、しかも、例えば、導体板範囲の精密な被覆に不可欠なプロセス有機体も使用できるという点にある。特に有利な実施例の場合、補助陰極液および補助陽極液を共通な循環路に導き、かくして、補助陰極液および補助陽極液のpH値の逆方向シフトが、連続的混合によって十分に補償される。
Claim (excerpt):
不溶性陽極および被覆される陰極を設けたメッキ槽(A)と、メッキ槽(A)外にあり循環路(K1A,K1B)に導かれる電解液(9)の金属含量を連続的に補充する供給容器(B)とを有するメッキ設備であって、陰極上に析出された層の所望の性質の達成および品質確保のために、電解液が有機添加剤(プロセス有機体)を含む形式のものにおいて、 電解液(9)の金属含量の補充が、金属イオン不透過性ダイアフラム(6)によって電解液(9)から分離された補助陰極液(8)内にある補助陰極(7)を配した供給容器(B)内の可溶性陽極(5)によって少なくとも部分的に行われること、及び、 メッキ槽(A)の不溶性陽極(3)が、陰イオン不透過性ダイアフラム(2)によって電解液(9)から分離された補助陽極液(4)内にあることを特徴とするメッキ設備。
IPC (2):
C25D 21/14 ,  C25D 17/00
FI (3):
C25D 21/14 G ,  C25D 17/00 H ,  C25D 21/14 C

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