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J-GLOBAL ID：200903054243487674

ガス供給装置

Inventor： 金井 一男 ,  小林 明文 ,  服部 学 ,  吉田 時男 ,  小原 一洋 ,  雨森 宏之 ,  松本 拓也
Applicant, Patent owner： 東京瓦斯株式会社 ,  大阪瓦斯株式会社 ,  東邦瓦斯株式会社 ,  西部瓦斯株式会社 ,  トキコ株式会社
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995240286
Publication number (International publication number)：1997079496
Application date： Sep. 19, 1995
Publication date： Mar. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 本発明のガス供給装置は、被充填タンクへのガス充填時間を短縮すると共にガス充填精度を向上させるといった課題を解決するものである。【解決手段】 ガス供給装置1は、圧力発生ユニット4と、ディスペンサユニット5と、制御装置6とよりなる。制御装置6は、燃料タンク3へのガス充填開始から充填目標圧力に達するまで予め設定された圧力上昇率となるように制御弁32の弁開度を制御すると共に、流量計33により計測された流量が予め設定された所定の微小流量以下に減少した時点で燃料タンク3へのガス充填を停止させる。そのため、充填目標圧力に達するまで高速充填を行ってガス充填時間を短縮できると共に、充填目標圧力に達した後は低速充填を行ってガス充填量の充填精度を高めることができる。

Claim (excerpt)：

被充填タンクに接続され、圧縮されたガスを該被充填タンクに供給するガス供給管路と、該ガス供給管路に設けられガスの流れを制御する制御弁と、前記ガス供給管路に設けられ、前記被充填タンクに充填される圧力を検出する圧力検出手段と、前記ガス供給管路に設けられ、前記被充填タンクに充填される流量を測定する流量計と、前記被充填タンクへのガス充填開始から充填目標圧力に達するまで予め設定された圧力上昇率となるように前記制御弁の弁開度を制御すると共に、前記流量計により計測された流量が予め設定された所定の微小流量以下に減少した時点で前記被充填タンクへのガス充填を停止させる制御手段と、よりなることを特徴とするガス供給装置。

IPC (2)：

F17C 5/06 ,  B60S 5/02

FI (2)：

F17C 5/06 ,  B60S 5/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭59-032663
  
• 特開平4-224399
  
• ガス供給装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-210697   Applicant：トキコ株式会社