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J-GLOBAL ID：200903054287318934

高純度超純水製造装置と水質制御法

Inventor： 小関 康雄 ,  梶 隆一 ,  橋本 信子 ,  佐藤 等 ,  滝野 和彦
Applicant, Patent owner： 日立プラント建設株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 平木 祐輔
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991305143
Publication number (International publication number)：1993138196
Application date： Nov. 20, 1991
Publication date： Jun. 01, 1993
Summary：

【要約】【目的】 常に安定した高純度の超純水を製造できる超純水製造装置と水質制御方法を提供する。【構成】 超純水製造装置の超純水プロセスにおいて、超純水の水質項目として全蒸発残留不純物量(TS)を加え、その測定器(TS 計) とそれらの水質信号を受信し、各処理要素へ制御信号を送る制御ユニットを持つ。【効果】 各処理要素の溶出を極力防止し且つ除去能力が大きい状態で、各要素を運転制御することにより、原水の水質や各処理要素性能が変動しても、常に安定した高純度の超純水を製造できる。

Claim (excerpt)：

水中の不純物を除去する不純物処理手段と、不純物量測定手段と、該不純物量測定手段からの信号に基づき該不純物処理手段に制御信号を送る制御手段とからなる超純水製造装置において、不純物量測定手段は該不純物処理手段から溶出する物質を測定し得る手段を少なくとも有していることを特徴とする、超純水製造装置。

IPC (5)：

C02F 9/00 ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44