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J-GLOBAL ID：200903054304363116
排ガス浄化用触媒
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大川 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995140829
Publication number (International publication number)：1996332350
Application date： Jun. 07, 1995
Publication date： Dec. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】低温活性と高温下における耐久性能を向上させる。【構成】排ガス流の上流側にPdとRhを担持し下流側にPtとRhを担持した排ガス浄化用触媒であって、上流側のPdの担持密度をPdが担持された担体の上流側部分20の体積1リットル当たり7〜20gとした。上流側部分にPdが高密度で担持されていることにより、HC50%浄化温度が350°C前後にまで低下し低温活性が向上する。またPdが高密度で担持されているために高温下における耐久性に優れている。
Claim (excerpt)：
排ガス流の上流側にパラジウムとロジウムを担持し下流側に白金とロジウムを担持した排ガス浄化用触媒であって、上流側のパラジウムの担持密度をパラジウムが担持された担体の上流側部分の体積1リットル当たり7〜20gとしたことを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (3)：
B01D 53/94
, B01D 53/86 ZAB
, B01J 23/46 311
B01D 53/36 104 A
, B01J 23/46 311 A
, B01D 53/36 ZAB
, B01D 53/36 102 A
