Pat
J-GLOBAL ID：200903054341204605
拡散装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石戸 元
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993236399
Publication number (International publication number)：1995094435
Application date： Sep. 22, 1993
Publication date： Apr. 07, 1995
Summary：
【要約】【目的】 膜厚,膜質が均一になる被処理基板の熱処理ができ、反応管の形状を単純化してその加工を容易になし、安価に実施でき、かつ1100°C以上の熱処理に耐える装置及び炉内温度の安定化が図れる装置を提供する。【構成】 ガス導入口11A、ガス供給溝15及びガス排気口12Aを有するリング状筒であるフランジ10上に内部反応管6Bを載せ、内部反応管6Bの下部フランジ6B1 にはガス供給溝15に連通する孔6B2 を複数個設け、これらの孔6B2 を塞がないように外部反応管6Aを載せて組み合わせて反応管6を構成し、炉内温度が1100°C以上の場合、外,内部反応管6A,6BをSiC製、フランジ10をSiC製或いは石英製とし、炉内温度が1100°C以下の場合、外,内部反応管6A,6B及びフランジ10を石英製とすると共にヒータと外部反応管6Aとの間にSiC製均熱管を配置してなる。
Claim (excerpt)：
ガス導入口(11A)、ガス供給溝(15)及びガス排気口(12A)を有するリング状筒であるフランジ(10)上に内部反応管(6B)を載せ、この内部反応管(6B)の下部フランジ(6B1 )にはガス供給溝(15)に連通する孔(6B2 )を複数個設け、これらの孔(6B2 )を塞がないように外部反応管(6A)を載せて組み合わせて反応管(6)を構成したことを特徴とする拡散装置。
Patent cited by the Patent：
Return to Previous Page
