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J-GLOBAL ID：200903054342570435

洗浄方法、半導体装置の製造方法及びアクティブマトリクス型表示装置の製造方法

Inventor：
速水 直哉

About 速水 直哉


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001087197
Publication number (International publication number)：2002289565
Application date： Mar. 26, 2001
Publication date： Oct. 04, 2002
Summary：
【要約】【課題】 被処理体の表面に付着したパーティィクルの除去効率を低下させることなく、被処理体である半導体、液晶ディスプレイ、電子デバイス等に形成された微細パターンに対してダメージを与えない洗浄方法、半導体装置の製造方法及びアクティブマトリクス型表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 超音波を印加した洗浄液4を被洗浄体1に供給して、前記被洗浄体1を洗浄する超音波洗浄方法において、前記洗浄液4に対して前記超音波を所定間隔でON-OFFを繰り返して印加する。
Claim (excerpt)：
第1の超音波を照射して被洗浄物を洗浄する第1の工程と、第2の超音波を照射して被洗浄物を洗浄する第2の工程とを具備する洗浄方法ことを特徴とする超音波洗浄方法。
IPC (4)：
H01L 21/304 642 ,  B08B 3/12 ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 338
FI (4)：
H01L 21/304 642 E ,  B08B 3/12 B ,  G02F 1/1333 500 ,  G09F 9/30 338
F-Term (19)：
2H090JB02 ,  2H090JC19 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201BB21 ,  3B201BB83 ,  3B201BB92 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA13 ,  5C094FB12 ,  5C094FB14 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01 ,  5C094JA08 ,  5C094JA20
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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