Pat

J-GLOBAL ID：200903054386041081

レジスト除去方法およびレジスト除去装置

Inventor： 国安 仁
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997335218
Publication number (International publication number)：1999165136
Application date： Dec. 05, 1997
Publication date： Jun. 22, 1999
Summary：

【要約】【課題】 低濃度のオゾン水を低流量でしかも短時間供給するだけで、効果的にレジストを除去することのできるレジスト除去方法およびレジスト除去装置の提供が望まれている。【解決手段】 レジストを形成した基板Wのレジスト形成面を洗浄水で洗浄し、レジストを除去するレジスト除去方法であり、洗浄水としてオゾン水を用い、基板をその面方向に回転させつつ、洗浄液を基板のレジスト形成面に供給する。また、レジストを形成した基板Wのレジスト形成面を洗浄水で洗浄し、レジストを除去するレジスト除去装置1であり、洗浄水としてオゾン水を用いてこれを供給するオゾン水供給部2と、基板Wを保持するとともに基板Wをその面方向に回転させる基板回転部3とを備えている。

Claim (excerpt)：

レジストを形成した基板のレジスト形成面を洗浄水で洗浄し、レジストを除去するにあたり、前記洗浄水としてオゾン水を用い、基板をその面方向に回転させつつ、前記洗浄液を該基板のレジスト形成面に供給することを特徴とするレジスト除去方法。

IPC (7)：

B08B 3/08 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/12 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/306

FI (8)：

B08B 3/08 A ,  B08B 3/02 B ,  B08B 3/12 A ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 643 A ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 J ,  H01L 21/306 D