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J-GLOBAL ID：200903054405965141
洗浄装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
福森 久夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991232279
Publication number (International publication number)：1993047734
Application date： Aug. 20, 1991
Publication date： Feb. 26, 1993
Summary：
【要約】【目的】 被処理体である半導体等に対し、半導体等の表面の不純物を効果的に除去し、半導体表面に光による電子あるいは正孔の励起由来の不純物付着を起こさせず、半導体表面に自然酸化膜等の変質を起こさせない洗浄装置を提供することを目的とする。【構成】 半導体を洗浄または、乾燥する装置において、少なくとも、被処理体が、洗浄に用いられる薬液あるいは超純水に接する部分に、光を遮断するための手段を設けたことを特徴とする。
Claim (excerpt)：
被処理体を洗浄または乾燥する装置において、少なくとも、被処理体が、洗浄に用いられる薬液あるいは超純水に接する部分に、光を遮断する手段を設けたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (2)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 341
