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J-GLOBAL ID：200903054407136002
排ガスを後処理するための装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995263049
Publication number (International publication number)：1996193511
Application date： Oct. 11, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：
【要約】【課題】 尿素沈積や調量弁および制御弁におけるスティッキングを回避すると同時に、導入された還元剤の最適な調製を得る。【解決手段】 空気供給を制御するための弁が、電気的に制御される制御弁5として形成されており、該制御弁5が、調量弁6の流出開口の下流側に配置されており、該流出開口26が、内燃機関の排ガスに直接に開口している。
Claim (excerpt)：
自己着火式の内燃機関の排ガスを後処理するための装置であって、排ガスシステム(1)が設けられており、該排ガスシステム(1)に、内燃機関の排ガスのNOX成分を還元するための還元触媒(2)が配置されており、さらに調量装置が設けられており、該調量装置が、内燃機関および触媒の種々の運転パラメータで排ガス中のNOX含量の、特性曲線図にメモりされた値に関連して、還元触媒(2)に供給された排ガスの流れに還元剤を調量して導入するための、電気的に制御される調量弁(6)と、圧縮空気源(18)から圧縮空気の供給を行なうための、弁(5)によって制御される空気供給部とから成っており、該空気供給によって、前記調量弁(6)の出口側(36)から流出する還元剤量が空気と共に微細分配されて排ガスに供給される形式のものにおいて、空気供給を制御するための弁が、電気的に制御される制御弁(5)として形成されており、該制御弁(5)が、前記調量弁(6)の流出開口(26)の下流側に配置されており、該流出開口(26)が、内燃機関の排ガスに直接に開口していることを特徴とする、排ガスを後処理するための装置。
IPC (2)：
F01N 3/08 ZAB
, F01P 3/12
