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J-GLOBAL ID:200903054416626977

低刺激性皮膚化粧料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000021471
Publication number (International publication number):2001213755
Application date: Jan. 31, 2000
Publication date: Aug. 07, 2001
Summary:
【要約】【課題】界面活性剤、有機酸、防腐剤等の皮膚に対する刺激性を緩和した皮膚化粧料を提供する。【解決手段】ヤエヤマアオキの抽出物、粉砕物または圧搾物を含有することを特徴とする低刺激性皮膚化粧料。
Claim (excerpt):
ヤエヤマアオキの抽出物、粉砕物または圧搾物を含有することを特徴とする低刺激性皮膚化粧料。
IPC (5):
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  A61K 35/78 ,  A61P 23/02 ,  A61P 29/00
FI (5):
A61K 7/48 ,  A61K 7/00 K ,  A61K 35/78 C ,  A61P 23/02 ,  A61P 29/00
F-Term (24):
4C083AA111 ,  4C083AA112 ,  4C083AC122 ,  4C083AC172 ,  4C083AC302 ,  4C083AC532 ,  4C083AD042 ,  4C083CC02 ,  4C083DD23 ,  4C083EE12 ,  4C088AB14 ,  4C088AC03 ,  4C088AC04 ,  4C088AC05 ,  4C088AC11 ,  4C088BA07 ,  4C088BA08 ,  4C088CA04 ,  4C088CA09 ,  4C088MA17 ,  4C088MA63 ,  4C088NA14 ,  4C088ZA08 ,  4C088ZA89

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