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J-GLOBAL ID:200903054419752027
熱処理装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993079043
Publication number (International publication number):1994267840
Application date: Mar. 11, 1993
Publication date: Sep. 22, 1994
Summary:
【要約】【目的】 簡単な構成によりケーシングの温度を低温に維持し、作業の安全を確保することができる熱処理装置を提供する。【構成】 基板を設置するホットプレート3を覆うカバーを内側カバー6と外側カバー8の二重構造にし、内側カバー6内において上方から下方に向かう不活性ガスGの気流を形成して粉塵などの巻き返しを防止しながら当該内側カバー6内の排気を行い、内側カバー6と外側カバー8との間の空間内においては、下方から上方に向けての気流を形成することにより効率よく熱排気を行う。
Claim (excerpt):
基板を加熱手段により加熱して熱処理する熱処理装置において、前記加熱手段の近傍を覆う内側カバーと、前記内側カバーの外側を覆う外側カバーと、前記内側カバー内の空間において上方から下方に向けて気流を形成する第1の気流形成手段と、前記内側カバーと前記外側カバーとの間の空間において下方から上方に向けて気流を形成する第2の気流形成手段と、を備えることを特徴とする熱処理装置。
IPC (4):
H01L 21/027
, G03F 7/16 501
, G03F 7/26
, H01L 21/324
Patent cited by the Patent:
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