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J-GLOBAL ID：200903054448240990

電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  阿出川 豊
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000267329
Publication number (International publication number)：2002072483
Application date： Sep. 04, 2000
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上を目指すものであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)電子線又はX線により、酸を発生し得る基を有する繰り返し単位を構成成分として含む樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)電子線又はX線により、酸を発生し得る基を有する繰り返し単位を構成成分として含む樹脂を含有する、電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物。

IPC (8)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/56 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/039 601 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/56 ,  C08K 5/00 ,  C08L 25/18 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (71)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BF00 ,  2H025BF23 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC101 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002EB106 ,  4J002ED057 ,  4J002EE037 ,  4J002EH127 ,  4J002EL097 ,  4J002EN028 ,  4J002ER008 ,  4J002ER028 ,  4J002ES006 ,  4J002EU048 ,  4J002EU118 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EU238 ,  4J002EV047 ,  4J002EV207 ,  4J002EV227 ,  4J002EV256 ,  4J002EV296 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002FD310 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA11P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA22Q ,  4J100BA41P ,  4J100BA58P ,  4J100BB01P ,  4J100BB01Q ,  4J100BB03P ,  4J100BB12P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC48P ,  4J100BC49P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC65P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38