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J-GLOBAL ID：200903054506270861
投影露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994127481
Publication number (International publication number)：1995335529
Application date： Jun. 09, 1994
Publication date： Dec. 22, 1995
Summary：
【要約】【目的】 投影光学系の収差の影響を受けにくくし、且つ露光時に走査方向に対して連続的にアライメントを行う。【構成】 -Y方向にレチクルを走査するのと同期して、+Y方向にウエハを走査することにより、レチクルのパターンをウエハ上に走査露光方式で露光する。ウエハのショット領域の近傍に走査方向に沿って連続的に格子状マーク17を形成し、レチクル上のほぼ対応する領域も走査方向に連続的に格子状マークを形成し、2つの格子状マークの位置ずれ量を連続的に計測する。この際に、格子状マーク17の2つの計測方向38及び39を、検出領域の中心36Aaと投影光学系の光軸AXとを通る直線37に関して線対称に設定する。これにより、2つの計測方向38及び39での収差及び結像倍率が等しくなる。
Claim (excerpt)：
マスク上の原画パターンを所定倍率で感光性の基板上に投影する投影光学系と、前記基板を保持して前記投影光学系の光軸に実質的に垂直な面内で前記基板を移動させる基板ステージと、前記投影光学系を介して前記マスク上の位置計測用のマークと前記基板上の位置計測用のマークとの相対的な位置ずれ量を検出するマーク検出手段と、を有する投影露光装置において、前記マーク検出手段は、前記投影光学系のフィールドでの所定の第1計測域に位置する前記基板上の位置計測用のマークによって互いに異なる第1計測方向及び第2計測方向での位置ずれ量をそれぞれ検出すると共に、前記マスク上の所定の第2計測域に位置する位置計測用マークによって前記第1計測方向に対応する方向と前記第2計測方向に対応する方向での位置ずれ量をそれぞれ検出し、前記投影光学系のフィールド内での前記第1及び第2計測方向は、前記投影光学系の光軸を含む所定の面と前記投影光学系のフィールドとが交差する直線に関して線対称であることを特徴とする投影露光装置。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 522 Z
, H01L 21/30 525 E
