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J-GLOBAL ID:200903054508619330

悪臭ガスの脱臭方法および装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 萩野 平 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995324652
Publication number (International publication number):1997155146
Application date: Dec. 13, 1995
Publication date: Jun. 17, 1997
Summary:
【要約】【課題】 従来の生物処理や紫外線処理では除去困難であった、硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪臭ガスのメチルメルカプタン、硫化メチル及び二硫化メチルなどを、紫外線照射等に必要なエネルギー消費量の増加を最小限に抑えながら、高い割合で除去することを可能にする技術を提供する。【解決手段】 硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪臭ガスを脱臭する方法において、予め硫化水素を除去した後、紫外線を照射することを特徴とする悪臭ガスの処理方法、および前記方法を実施するための装置であって、前記悪臭ガスの硫化水素を予め除去するための手段と、前記手段で硫化水素を除去したガスを紫外線照射する手段とを有してなることを特徴とする装置。
Claim (excerpt):
硫化水素を主成分とする硫黄化合物を含む悪臭ガスを脱臭する方法において、予め硫化水素を除去した後、紫外線を照射することを特徴とする悪臭ガスの処理方法。
IPC (5):
B01D 53/38 ,  B01D 53/77 ,  A61L 9/20 ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB
FI (4):
B01D 53/34 116 C ,  A61L 9/20 ,  B01D 53/32 ,  B01D 53/34 ZAB
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開昭61-274725
  • 特開昭62-087161
Cited by examiner (1)
  • 特開昭61-274725

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