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J-GLOBAL ID:200903054516881095

X線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大川 宏
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999211817
Publication number (International publication number):2001035689
Application date: Jul. 27, 1999
Publication date: Feb. 09, 2001
Summary:
【要約】【課題】飛散粒子の遮蔽とX線の波長選択を一つの手段で行う。【解決手段】ターゲット3とX線光学系6の間に、ターゲット3から所定距離離れた位置に所定幅の開孔をもち開孔をX線が通過する空間アパーチャー5を配置した。空間アパーチャー5の開孔を所定幅としておくことにより、X線は開孔を通過する際に波長選択されるため、狭帯域スペクトル化されたX線がX線光学系5に入射する。一方、空間アパーチャーの存在により飛散粒子を遮蔽することができるので、X線光学系5への飛散粒子の侵入を抑制することができる。
Claim (excerpt):
真空容器と、該真空容器内に配置されたターゲットと、該ターゲットにエネルギービームを照射するビーム照射手段と、該真空容器に連通して設けられ該ターゲットから発生したX線を導くX線光学系と、よりなるX線発生装置において、該ターゲットと該X線光学系の間には、該ターゲットから所定距離離れた位置に所定幅の開孔をもち該開孔内をX線が通過する空間アパーチャーが配置されていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (2):
H05G 2/00 ,  H05G 1/02
FI (2):
H05G 1/00 K ,  H05G 1/02 S
F-Term (5):
4C092AA06 ,  4C092AB23 ,  4C092BC18 ,  4C092BD13 ,  4C092BF10

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