Pat
J-GLOBAL ID:200903054529385224
排気ガス浄化装置および製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉村 興作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002000012
Publication number (International publication number):2002239346
Application date: Jan. 28, 1994
Publication date: Aug. 27, 2002
Summary:
【要約】【目的】 エンジン始動時に排出される高濃度の炭化水素を効率良く除去することのできる排ガス浄化用吸着触媒を提供すること。【構成】 触媒担体にゼオライトをコーティングした吸着触媒において、前記ゼオライト層上に活性セリア及び/又はアルミナを主成分とした粉末に触媒成分としてPt、Pd及びRhからなる群から選ばれた少なくとも1種を含む触媒層を有すること特徴とする排ガス浄化用吸着触媒。
Claim (excerpt):
触媒担体にゼオライト層をコーティングした吸着触媒において、前記ゼオライト層上に、あらかじめ触媒成分としてPt、Pd及びRhからなる群から選ばれた少なくとも1種を担持した活性セリア及び/又はアルミナを主成分とした触媒層を有する吸着触媒を排気ガス浄化装置の上流側に配し、前記排気ガス浄化用吸着触媒の下流側に三元触媒を配置し、前記排気ガス浄化用吸着触媒から流出してくる排気ガスのみが常に前記三元触媒に流入することを特徴とする排気ガス浄化装置。
IPC (10):
B01D 53/94
, B01J 29/12
, B01J 29/22
, B01J 29/44 ZAB
, B01J 29/74
, B01J 29/80
, B01J 37/02 301
, F01N 3/08
, F01N 3/10
, F01N 3/24
FI (10):
B01J 29/12 A
, B01J 29/22 A
, B01J 29/44 ZAB A
, B01J 29/74 A
, B01J 29/80 A
, B01J 37/02 301 C
, F01N 3/08 A
, F01N 3/10 A
, F01N 3/24 E
, B01D 53/36 104 A
F-Term (70):
3G091AB02
, 3G091AB03
, 3G091AB10
, 3G091BA15
, 3G091FA02
, 3G091FA04
, 3G091GB06W
, 3G091GB07W
, 3G091GB09Y
, 3G091HA19
, 3G091HA20
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB05
, 4D048BA03X
, 4D048BA11X
, 4D048BA19X
, 4D048BA30X
, 4D048BA31X
, 4D048BA33X
, 4D048BA34X
, 4D048BA41X
, 4D048BB02
, 4D048CC32
, 4D048CC46
, 4D048EA04
, 4G069AA01
, 4G069AA08
, 4G069BA01A
, 4G069BA01B
, 4G069BA07A
, 4G069BA13A
, 4G069BA13B
, 4G069BB02A
, 4G069BB02B
, 4G069BB04A
, 4G069BB04B
, 4G069BC32B
, 4G069BC43A
, 4G069BC43B
, 4G069BC71A
, 4G069BC71B
, 4G069BC72A
, 4G069BC72B
, 4G069BC75A
, 4G069BC75B
, 4G069BD01A
, 4G069CA03
, 4G069CA09
, 4G069EA19
, 4G069EE09
, 4G069FA02
, 4G069FA03
, 4G069FB14
, 4G069FB15
, 4G069FB16
, 4G069FB19
, 4G069FB23
, 4G069ZA05A
, 4G069ZA05B
, 4G069ZA06A
, 4G069ZA06B
, 4G069ZA11A
, 4G069ZA11B
, 4G069ZA19A
, 4G069ZA19B
, 4G069ZC04
, 4G069ZD01
, 4G069ZF05B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
-
エンジン排気浄化吸着剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-157362
Applicant:株式会社日立製作所, バブコック日立株式会社
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