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J-GLOBAL ID:200903054567052000

石英系光導波路およびその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 大家 邦久 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992323606
Publication number (International publication number):1994148446
Application date: Nov. 09, 1992
Publication date: May. 27, 1994
Summary:
【要約】【構成】 SiO2 の真空蒸着条件を変えて基板上に形成した、屈折率の異なる2種類のSiO2 をコア層およびクラッド層とする石英系光導波路、及びSiO2 の真空蒸着条件を一定としてSiO2 膜を基板上に堆積し所定の屈折率を有するクラッド層を形成した後、その上に真空蒸着条件を変えて前記クラッド層より屈折率の大きいSiO2 のコア層を堆積し、この層を所望のパターンにエッチングした後、その上部に前記クラッド層の形成時と同一の条件でSiO2 膜を堆積しクラッド層を形成することを特徴とする石英系光導波路の製造方法。【効果】 真空蒸着条件を変えるのみで屈折率の異なる層が形成でき、簡略な製造設備で、工業的に有利に石英系光導波路を製造できる。
Claim (excerpt):
SiO2 の真空蒸着条件を変えて基板上に形成した、異なる屈折率を有する2種類のSiO2 をコア層およびクラッド層としてなることを特徴とする石英系光導波路。

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