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J-GLOBAL ID：200903054570264743

半導体製造プロセス安定化支援システム

Inventor： 飛田 朋之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999056611
Publication number (International publication number)：2000252179
Application date： Mar. 04, 1999
Publication date： Sep. 14, 2000
Summary：

【要約】【課題】半導体製造プロセス安定化支援システムにおいて、製品の品質の安定化と歩留まりの向上とを実現し、生産効率を向上できるシステムを提供する。【解決手段】予め定められた工程に従い半導体製品を製造するための設備であって、かつ種々の情報を送信する機能を有する製造装置と、前記製造装置からの実績データと検査結果とを結合する計算手段11と、前記計算手段11によって収集・結合されたデータから、前記製造装置の実績データと検査結果との因果関係を求める計算手段12と、前記計算手段12で計算された因果関係から、前記製造装置の推定される結果を前記検査結果の実績データに比して、プロセスパラメータを調整する計算手段13と、設定範囲又は許容範囲値を調整する計算手段14とを具備した。【効果】本発明によれば、信頼性が高く且つ容易に製造設備を自動運転でき、且つ連続的に監視できる。

Claim (excerpt)：

予め定められた工程に従い半導体製品を製造するための設備であって、かつ種々の情報を送信する機能を有する製造装置と、前記各製造装置の製作条件やその管理値等を記憶する製造条件管理機器と、製造ラインの生産計画・進行を管理する生産管理機器と、前記各製造装置により製作され製品の寸法や膜厚等の計測結果を収集し記憶する検査管理機器とをネットワークで接続し、前記各製造装置からの処理したデータ(プロセスパラメータの実績値)を収集するサーバを前記ネットワーク上に具備し、前記サーバには前記検査管理機器に収集されたデータを前記製造装置や品種に該当する所望のデータを抽出し、且つ前記製造装置からのプロセスパラメータの実績データとを結合する計算手段1を具備し、前記製造装置からのプロセスパラメータの実績データは前記サーバで直接収集するか、或いは前記製造装置と前記サーバ間に前記設備単位で所定の動作制御を行うコントローラを介して収集し、前記サーバ内の計算手段1によって収集・結合された前記製造装置からのプロセスパラメータの実績データと検査結果のデータから、前記製造装置のプロセスパラメータの実績データと検査結果との因果関係を求める計算手段2を具備し、更に、前記計算手段2で計算された因果関係から、前記製造装置の推定される結果を前記検査結果の実績データに比して、バラツキを圧縮しかつ所望の目標値(平均値)を達成するために前記プロセスパラメータを調整する計算手段3を具備し、更にその設定範囲又は許容範囲値を調整する計算手段4を具備し、更に、前記ネットワーク上には、前記製造装置の近傍に端末機器を配設して接続し、前記計算手段4にて計算された所定のプロセスパラメータと前記製造装置から収集される実績データと検査結果や他の着工実績の履歴等を前記端末機器に表示し、且つ前記製造装置の状態変化を監視できる構成としてあることを特徴とする半導体製造プロセス安定化支援システム。