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J-GLOBAL ID：200903054591647308

鏡面ウエーハ並びにその製造方法及び検査方法

Inventor： 中里 泰章 ,  神田 貴裕
Applicant, Patent owner： 信越半導体株式会社 ,  長野電子工業株式会社
Agent (1)： ▲高▼野 俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992061186
Publication number (International publication number)：1993226203
Application date： Feb. 17, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 潜傷の存在が認められない鏡面ウエーハ、その製造方法及び検査方法を提供する。【構成】 Si単結晶からなる鏡面ウエーハを、50重量%のフッ化水素酸、70重量%の硝酸、及び純酢酸各々の混合容積比で1:(1〜10):(1〜5)の範囲にあるエッチング液に浸漬して鏡面からの深さで0.5〜15μmの範囲をエッチングし、この処理後の鏡面ウエーハの鏡面を微分干渉顕微鏡により観察し、この観察で潜傷が認められなくなるまで研磨材(砥粒)を含まない化学的研磨液及び研磨布とにより仕上研磨を行う。

Claim (excerpt)：

Si(シリコン)単結晶からなる鏡面ウエーハを、50重量%のフッ化水素酸、70重量%の硝酸、及び純酢酸各々の混合容積比で1:(1〜10):(1〜5)の範囲にあるエッチング液に浸漬して前記鏡面ウエーハの鏡面からの深さで0.5〜15μmの範囲内をエッチングし、このエッチング処理を受けた鏡面ウエーハの鏡面を微分干渉顕微鏡により観察し、この観察により潜傷の存在が認められない鏡面ウエーハ。

IPC (5)：

H01L 21/02 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/308 ,  H01L 21/66

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭51-019483
  
• 特開昭56-032116
  
• 特開平1-017879
  
• 特開平1-042823