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J-GLOBAL ID：200903054616391141

フォトレジスト製造用の感光性組成物

Inventor： エヴェリン プラト ,  マティアス デスタラク
Applicant, Patent owner： ロディア・シミ
Agent (1)： 倉内 基弘 (外1名)
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2002502523
Publication number (International publication number)：2003536105
Application date： Jun. 01, 2001
Publication date： Dec. 02, 2003
Summary：

【要約】本発明は、フォトレジスト用の新規の感光性組成物及び基板と前記の新規の組成物から得られるフォトレジストとを含む系に関する。このフォトレジスト用の感光性組成物は、疎水性ブロック含有コポリマー(その少なくとも1つのブロックが親水性ブロックを生じさせることができる疎水性ブロックであり、そしてその末端にジチオエステル、チオエーテル-チオン、ジチオカルバメート及びキサンテートから選択される基を含むものである)と、光活性化合物(これは放射線の作用下において活性種を生じさせることができ、この活性種が前記疎水性ブロックと反応して親水性ブロックを生じさせる)とを含む。

Claim (excerpt)：

疎水性ブロック含有コポリマーと光活性化合物とを含むフォトレジスト用感光性組成物であって、 前記コポリマーの少なくとも1つのブロックが親水性ブロックを生じさせることができる疎水性ブロックであり、且つ、該コポリマーが末端にジチオエステル、チオエーテル-チオン、ジチオカルバメート及びキサンテートから選択される基を含み、 前記光活性化合物が、放射線の作用下において活性種を生じ、この活性種が前記疎水性ブロックと反応して前記親水性ブロックを生じさせることができるものである、前記フォトレジスト用感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F293/00 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 601 ,  C08F293/00 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (22)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB51 ,  4J026HA06 ,  4J026HA11 ,  4J026HA48 ,  4J026HB08 ,  4J026HB11 ,  4J026HB45 ,  4J026HB50 ,  4J026HE01