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J-GLOBAL ID：200903054629817466

加熱炉及びワークの加熱処理方法

Inventor： 石丸正規
Applicant, Patent owner： 関西日本電気株式会社
Agent (1)： 工藤 一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998115668
Publication number (International publication number)：1999307611
Application date： Apr. 24, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：

【要約】【課題】ワークを加熱ないしは加熱処理を行う際には加熱チャンバ-内にN2カーテンのようなものを配置して不所望の化学反応を排除するようにしている。しかしながら活性が高い金属表面が露呈したままで加熱処理を行わなければならないような場合、例えば磁性材料のアニール処理や半導体ウエハ上へのケミカルベーパデポジション等の場合にはこのような N2カーテン等のガス混入防止処置では不十分な場合があった。【解決手段】加熱チャンバ-10bとロ-ドロック室10aとを有する加熱炉10を提供する。又、前記ロ-ドロック室10aにワ-ク12がロ-デイングされた後、このロ-ドロック室10aの大気雰囲気を前記加熱チャンバ-10bでの加熱処理ガス雰囲気に置換し、その後このロ-ドロック室10aと加熱チャンバ-10bとを導通し、前記ワ-ク12を加熱チャンバ-10bに移送して加熱処理する加熱炉10を提供する。

Claim (excerpt)：

加熱チャンバ-とロ-ドロック室とを有する加熱炉。

IPC (5)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/324 ,  C23C 14/56

FI (5)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/285 C ,  H01L 21/324 S ,  C23C 14/56 F ,  H01L 21/302 B