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J-GLOBAL ID：200903054641392640

基板の研磨方法及び基板保持具

Inventor： 丸山 正和
Applicant, Patent owner： セントラル硝子株式会社
Agent (1)： 西 義之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997338544
Publication number (International publication number)：1999170165
Application date： Dec. 09, 1997
Publication date： Jun. 29, 1999
Summary：

【要約】【課題】基板の研磨面に局部的な凹凸が発生することを防止する。【解決手段】片面研磨法において、バックパッドの下面にバックパッド面上を自由に摺動可能に移動することが出来る基板用孔部を有するリング状の外枠を設け、該外枠の外周に外側への外枠の移動を制止する制止部材を設け、加圧研磨する際に基板及び外枠を一体でバックパッド面上を自由に摺動可能に移動させて、基板を研磨する方法。

Claim (excerpt)：

上部定盤の下面に発泡弾性体のバックパッドを介して基板を保持し、上部定盤で加圧しながら下方に設けた研磨盤を回転し基板の片面を研磨する方法において、バックパッドの下面にバックパッド面上を摺動可能に移動することができる基板用孔部を有するリング状の外枠を設け、加圧研磨する際に該基板用孔部に基板を嵌装し、研磨中に基板及び外枠を一体でバックパッド面上を摺動可能に移動させて、基板を研磨することを特徴とする基板の研磨方法。