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J-GLOBAL ID:200903054652141364
単分散複合型エマルションの製造装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
小山 有
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001266001
Publication number (International publication number):2003071261
Application date: Sep. 03, 2001
Publication date: Mar. 11, 2003
Summary:
【要約】【課題】W/O/W型、O/W/O型、E/O/W型等の各種複合型エマルションを効率よく製造できる装置を提供する。【解決手段】 第2スペース12内に供給口65を介して連続相を供給した状態で、第1スペース11内に供給口64を介して分散相を供給する。また、これと同時に第3スペース13内に供給口66を介して連続相を供給する。上記の状態から、第1スペース11内に供給する分散相の圧を高めることで、分散相が第1マイクロチャネル21を介して第2スペース12内の連続相内に分散してエマルションが生成される。そして、第2スペース12内の圧力を高めることで第2スペース12内に形成されたエマルションは第2マイクロチャネル22を介して第3スペース13内の連続相内に分散し、目的とする複合型エマルションが生成される。
Claim (excerpt):
エマルションを構成する分散相自体が別のエマルションとなっている単分散複合型エマルションを製造する装置であって、この装置は分散相が供給される第1スペースと、この第1スペースに隣接するとともに連続相が供給される第2スペースと、この第2スペースに隣接するとともに前記連続相と同一または別の連続相が供給される第3スペースと備え、前記第1スペースと第2スペースは第1マイクロチャネルでつながり、前記第2スペースと第3スペースは第2マイクロチャネルでつながっていることを特徴とする単分散複合型エマルションの製造装置。
IPC (10):
B01F 3/08
, A61K 7/00
, A61K 9/113
, A61P 5/26
, A61P 35/00
, B01F 5/08
, A23D 9/02
, A23G 9/04
, A61K 31/337
, A61K 31/568
FI (10):
B01F 3/08 A
, A61K 7/00 N
, A61K 9/113
, A61P 5/26
, A61P 35/00
, B01F 5/08
, A23D 9/02
, A23G 9/04
, A61K 31/337
, A61K 31/568
F-Term (22):
4B014GB18
, 4B014GT01
, 4B026DP10
, 4B026DX03
, 4C076AA18
, 4C076CC27
, 4C076CC30
, 4C076GG41
, 4C083CC01
, 4C083DD31
, 4C083DD34
, 4C083FF05
, 4C086AA01
, 4C086BA02
, 4C086DA08
, 4C086MA22
, 4C086NA10
, 4C086NA13
, 4C086ZB26
, 4C086ZC03
, 4G035AB40
, 4G035AC26
Patent cited by the Patent:
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