Pat

J-GLOBAL ID：200903054662240387

投影露光装置及び露光方法

Inventor： 篠田 健一郎
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 山下 穣平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000099013
Publication number (International publication number)：2001284236
Application date： Mar. 31, 2000
Publication date： Oct. 12, 2001
Summary：

【要約】【課題】 露光中に、投影露光系を含めて概ね全光学系の透過率変化を測定し、積算露光量をより正確に制御する。【解決手段】 光検出器40は、照明光学系全系及び投影光学系の一部を透過してきた光を受光する。露光中はレチクルステージ11上にレチクル10が配置され、レチクル10上の回路パターンを照明する。照明により発生する回路パターンの回折光は、投影光学系12によりウェハ14面上で再結像している。この結像に寄与する回折光は、NA絞り13でけられることのない、0〜±1次(低次)の回折光である。NA絞り13面上に光検出器40を配置することで結像には寄与しない高次回折光を受光し、ウェハ14面近傍までの光学系の透過率変化を検出する。また、検出した透過率変化を積算露光量センサ17の出力に反映させて、光源1の出力やND2の調整に対してフィードバック制御を行う。

Claim (excerpt)：

光源と、照明光学系と、原板上のパターンを基板上に投影する投影光学系と、該原板上のパターンからの回折光を受光する受光手段を備え、該受光手段の出力変化に基づいて光学系の透過率変化を検出することを特徴とする投影露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22

FI (3)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 515 D

F-Term (4)：

5F046BA03 ,  5F046DB01 ,  5F046DB10 ,  5F046DB14