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J-GLOBAL ID:200903054669402919
トンネル電界効果トランジスタを用いたメモリ
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007131539
Publication number (International publication number):2008021970
Application date: May. 17, 2007
Publication date: Jan. 31, 2008
Summary:
【課題】抵抗メモリの一種として挙げられ、抵抗記憶素子に相変化材料を用いた相変化メモリを提供する。【解決手段】メモリは、第1ドレイン124と第1ソース122aとを含む第1トンネル電界効果トランジスタ108aを含んでいる。上記第1ドレインは、第1抵抗記憶素子106aに結合されている。上記メモリは、第2トンネル電界効果トランジスタ108bを含んでいる。上記第2トンネル電界効果トランジスタは、第2ドレインを含み、上記第1ソース122aを共有している。上記第2ドレインは、第2抵抗記憶素子に結合されている。上記メモリは、ソースノードを設けるために、上記第1ソースに結合されている第1領域114を含む。【選択図】図2
Claim (excerpt):
第1ドレインと第1ソースとを含み、上記第1ドレインが第1抵抗記憶素子に結合されている第1トンネル電界効果トランジスタと、
第2ドレインを含み、上記第1ソースを共有し、上記第2ドレインが、第2抵抗記憶素子に結合されている第2トンネル電界効果トランジスタと、
ソースノードを設けるために、上記第1ソースに結合されている第1領域とを含むメモリ。
IPC (7):
H01L 27/105
, H01L 27/10
, H01L 21/824
, H01L 45/00
, H01L 29/66
, H01L 29/78
, H01L 29/786
FI (8):
H01L27/10 448
, H01L27/10 451
, H01L27/10 447
, H01L45/00 A
, H01L29/66 T
, H01L29/78 301J
, H01L29/78 613B
, H01L29/78 622
F-Term (34):
4M119AA11
, 4M119AA13
, 4M119DD32
, 4M119DD45
, 4M119EE21
, 4M119EE26
, 5F083FZ10
, 5F083GA06
, 5F083GA09
, 5F083GA13
, 5F083HA02
, 5F083KA01
, 5F083KA05
, 5F083KA16
, 5F083MA06
, 5F083MA19
, 5F110AA06
, 5F110AA30
, 5F110BB08
, 5F110BB13
, 5F110CC02
, 5F110DD12
, 5F110DD13
, 5F110GG37
, 5F110GG60
, 5F110NN71
, 5F140AA24
, 5F140AA39
, 5F140AB00
, 5F140AC13
, 5F140AC32
, 5F140AC36
, 5F140BB13
, 5F140BH30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
-
電界効果トランジスタ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-356012
Applicant:日産自動車株式会社
-
共振トンネル電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-094564
Applicant:モトローラ・インコーポレイテッド
-
集積メモリデバイスおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-198146
Applicant:インフィネオンテクノロジーズアクチエンゲゼルシャフト
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-077470
Applicant:松下電器産業株式会社
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