Pat

J-GLOBAL ID：200903054682532740

排ガスの処理剤及び処理方法

Inventor： 原田 功 ,  在塚 眞 ,  星川 真樹
Applicant, Patent owner： 三井東圧化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995128290
Publication number (International publication number)：1996318131
Application date： May. 26, 1995
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【構成】 一般式が次式で構成される、ハイドロタルサイト及び非結晶構造を有する前駆体のうち、M3+が三価の金属イオン、M2+が二価の金属イオン及びAn-がn価の陰イオンを主体としてなるシラン系ガスを含む排ガスの処理剤及び該処理剤を半導体装置から排出するシラン系ガスを含む排ガスと気固接触によって処理する排ガスの処理方法に関する。[M3+X M2+1-X(OH)2]X+[An-X/nmH2O]X-【効果】 排ガス中に含まれるシラン系ガスの処理温度を高温にすることなく、0.1ppm以下まで除害することが可能。

Claim (excerpt)：

一般式が化1で構成される、ハイドロタルサイト及び非結晶構造を有する前駆体のうち、M3+が三価の金属イオン、M2+が二価の金属イオン及びAn-がn価の陰イオンを主体としてなるシラン系ガスを含む排ガスの処理剤。【化1】[M3+XM2+1-X(OH)2]X+[An-X/nmH2O]X-

IPC (3)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/46 ,  B01J 20/08

FI (3)：

B01D 53/36 ZAB Z ,  B01J 20/08 C ,  B01D 53/34 120 A

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ガスの処理方法及びガス処理剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-017148   Applicant：日本酸素株式会社