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J-GLOBAL ID：200903054716764573

磁気光学体及びその製造方法

Inventor： 井上 光輝 ,  藤井 壽崇 ,  高山 昭夫 ,  北村 厚 ,  足立 重之 ,  加藤 英樹
Applicant, Patent owner： ミネベア株式会社
Agent (1)： 萼 経夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999283512
Publication number (International publication number)：2001110635
Application date： Oct. 04, 1999
Publication date： Apr. 20, 2001
Summary：

【要約】【課題】 希土類鉄ガーネット系の材料を使用して大きな磁気光学効果が得られる磁気光学体及びその製造方法を提供する。【解決手段】 (SiO2 /Ta2O5)n 層210 の上にBiYIG 薄膜207 を成膜し、基板ホルダ201 を介して非耐熱性基板203 及び(SiO2 /Ta2O5)n 層210 を冷却しつつ赤外線によりBiYIG 薄膜207 の結晶化熱処理を行う。非耐熱性基板203 は冷却され、その変形が抑制されるので、BiYIG 薄膜207 の結晶化のための熱処理を行える。BiYIG 薄膜207 の結晶化により大きな磁気光学効果が得られる。非耐熱性基板203 は、冷却されており、熱可塑性樹脂にしたり、またはテープ状、フィルム状あるいはシート状にでき、取扱の容易化及びコンパクト化が図れる。基板をガラスにしなくて済みグルーブを形成しやすくなる。(SiO2 /Ta2O5)n 層210の冷却でTa2O5 とSiO2の相互拡散が防止され、結晶化熱処理が可能になる。

Claim (excerpt)：

結晶質の希土類鉄ガーネットの磁気光学薄膜が設けられた非耐熱性基板を備えたことを特徴とする磁気光学体。

IPC (7)：

H01F 10/24 ,  G11B 11/105 501 ,  G11B 11/105 506 ,  G11B 11/105 521 ,  G11B 11/105 531 ,  G11B 11/105 546 ,  G11B 11/105

FI (7)：

H01F 10/24 ,  G11B 11/105 501 A ,  G11B 11/105 506 D ,  G11B 11/105 521 C ,  G11B 11/105 531 F ,  G11B 11/105 546 C ,  G11B 11/105 546 A

F-Term (10)：

5D075EE01 ,  5D075EE05 ,  5D075FF08 ,  5D075GG01 ,  5D075GG16 ,  5E049AB06 ,  5E049BA22 ,  5E049BA23 ,  5E049CB01 ,  5E049DB06