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J-GLOBAL ID:200903054731026570
粒子分析装置用光学系、及びそれを用いた粒子分析装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西野 卓嗣
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006209263
Publication number (International publication number):2008032659
Application date: Jul. 31, 2006
Publication date: Feb. 14, 2008
Summary:
【課題】小型化された粒子分析装置用光学系、及びそれを用いた粒子分析装置を提供する。【解決手段】本発明の粒子分析装置用光学系は、光源と、光源からの光を、フローセルを通過する被検粒子に照射する照射光学系と、前記被検粒子からの散乱光を受光する光センサと、光源から光センサに入射する直接光を遮断する遮光部材と、前記散乱光を前記光センサに入射させる集光レンズと、を備え、前記照射光学系は、フローセルを通過する被検粒子に光源からの光を集光する第1焦点と、前記集光レンズと光センサとの間の位置に光源からの光を集光する第2焦点とを形成し、前記遮光部材が、前記第2焦点の位置に配置される。【選択図】図4
Claim (excerpt):
光源と、
光源からの光を、フローセルを通過する被検粒子に照射する照射光学系と、
前記被検粒子からの光を受光する光センサと、
光源から光センサに入射する直接光を遮断する遮光部材と、
前記被検粒子からの光を前記光センサに入射させる集光レンズと、
を備え、
前記照射光学系は、フローセルを通過する被検粒子に光源からの光を集光する第1焦点と、前記集光レンズと光センサとの間の位置に光源からの光を集光する第2焦点とを形成し、前記遮光部材が、前記第2焦点の位置に配置される、粒子分析装置用光学系。
IPC (3):
G01N 15/14
, G01N 21/53
, G01N 21/64
FI (4):
G01N15/14 P
, G01N15/14 C
, G01N21/53 Z
, G01N21/64 Z
F-Term (33):
2G043AA06
, 2G043BA16
, 2G043CA04
, 2G043DA05
, 2G043EA01
, 2G043EA13
, 2G043EA14
, 2G043HA01
, 2G043HA09
, 2G043HA15
, 2G043JA01
, 2G043KA02
, 2G043KA09
, 2G043LA01
, 2G043LA02
, 2G043NA05
, 2G059AA10
, 2G059BB13
, 2G059DD12
, 2G059EE01
, 2G059EE02
, 2G059EE07
, 2G059EE11
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059HH02
, 2G059JJ07
, 2G059JJ22
, 2G059JJ30
, 2G059KK01
, 2G059KK02
, 2G059MM09
, 2G059PP04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
-
特公昭63-51268号公報
-
特開昭63-075640
-
フローサイトメータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-094878
Applicant:シスメックス株式会社
-
特開平4-184241
-
特開昭62-008038
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Cited by examiner (4)